氧化鋁抛光粉
Sciyea氧化鋁抛光粉，嚴格控制粒徑和改善粒子表面特性的基礎上研發生産。在加工過程中，此聚集的結晶顆粒快速裂變和破碎，以達到提高切削力和表面質量的要求。适用于矽、鍺、砷化镓、磷化铟、钽酸锂等材料。
- 基本信息
- 适用于半導體、藍寶石、硬質玻璃、金屬、不鏽鋼、鋁合金、鎢钼材料。
- 在保持高切削力的同時，能達到精密的抛光、研磨效果；
- 可根據客戶需求提供更多不同粒徑的抛光液；
- 顆粒分散均勻，不團聚，有效避免抛光過程中由于顆粒團聚導緻的工件表面劃傷缺陷；
- 顆粒粒徑分布适中，最大程度提升抛光速率的同時降低微劃傷的概率，可以提高抛光精度；
- 運用抛光過程中的化學新作用，提高抛光速度，改善抛光表面的質量。
- 特性
- 純度高
- 切削力高
- 可達納米級範圍
- 顆粒度均勻
- 穩定性好
- 粗糙度高
- 製品パラメーター
- 基本信息
- 适用于半導體、藍寶石、硬質玻璃、金屬、不鏽鋼、鋁合金、鎢钼材料。
- 在保持高切削力的同時，能達到精密的抛光、研磨效果；
- 可根據客戶需求提供更多不同粒徑的抛光液；
- 顆粒分散均勻，不團聚，有效避免抛光過程中由于顆粒團聚導緻的工件表面劃傷缺陷；
- 顆粒粒徑分布适中，最大程度提升抛光速率的同時降低微劃傷的概率，可以提高抛光精度；
- 運用抛光過程中的化學新作用，提高抛光速度，改善抛光表面的質量。
- 特性
- 純度高
- 切削力高
- 可達納米級範圍
- 顆粒度均勻
- 穩定性好
- 粗糙度高
粒度 | 中心粒徑um | 粒徑 | 中心粒徑 | 粒度 | 中心粒徑 |
#240 | 58.6±3.0 | #700 | 17.9±1.3 | #3000 | 4.00±0.50 |
| #280 | 49.4±3.0 | #800 | 14.7±1.3 | #4000 | 3.00±0.40 |
| #320 | 41.4±2.5 | #1000 | 11.9±1.0 | #6000 | 2.00±0.40 |
| #360 | 36.1±2.0 | #1200 | 9.90±0.80 | #8000 | 1.20±0.30 |
| #400 | 30.9±2.0 | #1500 | 8.40±0.60 | #10000 | 0.51~0.70 |
| #500 | 26.4±2.0 | #2000 | 6.90±0.50 | #20000 | 0.50※（2） |
| #600 | 21.1±1.5 | #2500 | 5.60±0.50 | #30000 | 0.32※（1.3） |
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