矽溶膠/二氧化矽抛光液
Sciyea二氧化矽抛光液主要由高純度的氧化矽微粉所組成。可避免加工時易産生的刮傷現(xiàn)象，适用于工件的精抛，能達到工件要求的鏡面效果，可替代同類進口産品。
- 基本信息
- 适用于藍寶石材料、超硬陶瓷材料、矽片、不鏽鋼、鎂鋁合金、化合物半導體等抛光加工；
- PH值穩定基本保持不變
- 含量15-45（w%）
- 廣泛用于多種材料的納米級化學機械抛光
- 特性
- 粒徑均一（粒徑分布窄，形貌成正球狀）
- 抛光效率高（特殊配方，PH穩定不變）
- 高平坦度（表面質量Ra＜0.2nm TTV＜3um）
- 循環次數多，使用壽命長
- 結晶速度慢(màn)，性能穩定
- 製品パラメーター
- 基本信息
- 适用于藍寶石材料、超硬陶瓷材料、矽片、不鏽鋼、鎂鋁合金、化合物半導體等抛光加工；
- PH值穩定基本保持不變
- 含量15-45（w%）
- 廣泛用于多種材料的納米級化學機械抛光
- 特性
- 粒徑均一（粒徑分布窄，形貌成正球狀）
- 抛光效率高（特殊配方，PH穩定不變）
- 高平坦度（表面質量Ra＜0.2nm TTV＜3um）
- 循環次數多，使用壽命長
- 結晶速度慢(màn)，性能穩定
| 型号 | 中心粒徑（um） | PH值 | 應用領域 |
3800 | 20-40 | 10.0 | 單晶矽、碳化矽、砷化镓、激光晶體等化合物半導體。 |
| 3801 | 60-80 | 10.0 | 藍寶石襯底、激光晶體、光學晶體、铌酸锂、钽酸锂等。 |
| 3803 | 80-120 | 10.5 | 激光晶體、精密金屬、鋁合金、氧化鋁陶瓷。 |
| 3803S | 60-80 | 3.0 | 氮化鋁陶瓷 |
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