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金剛石微粉/鑽石粉

    Sciyea金剛石微粉可分爲: 多晶金剛石微粉、類多晶金剛石微粉、單晶金剛石微粉、納米金剛石微粉,原料采用于高強度、高純度的優質金剛石。産品分散性好、粒度均勻、規格齊全、質量穩定,能廣泛用于硬質材料的研磨和精密抛光。


    • 基本信息
    • 适用于藍寶石、半導體、陶瓷、金屬材料、光學晶體的加工。
    • 單晶:具有良好的切削力,加工成本相(xiàng)對較低,廣泛應用于超硬材料的研磨抛光。;
    • 多晶:利用聚晶金剛石的特性,在研抛過程中保持高切削效率的同時不易對工件産生劃傷;
    • 顆粒分散均勻,不團聚,有效避免抛光過程中由于顆粒團聚導緻的工件表面劃傷缺陷;
    • 顆粒粒徑分布适中,最大程度提升抛光速率的同時降低微劃傷的概率,可以提高抛光精度;
    • 運用抛光過程中的化學新作用,提高抛光速度,改善抛光表面的質量。

    • 特性
    • 晶粒尺寸微細、晶型完好
    • 比重大,具有良好的分散性
    • 顆粒細小均勻無團聚,适合于鏡面精抛光用途


  • 製品パラメーター

    Sciyea金剛石微粉可分爲: 多晶金剛石微粉、類多晶金剛石微粉、單晶金剛石微粉、納米金剛石微粉,原料采用于高強度、高純度的優質金剛石。産品分散性好、粒度均勻、規格齊全、質量穩定,能廣泛用于硬質材料的研磨和精密抛光。


    • 基本信息
    • 适用于藍寶石、半導體、陶瓷、金屬材料、光學晶體的加工。
    • 單晶:具有良好的切削力,加工成本相(xiàng)對較低,廣泛應用于超硬材料的研磨抛光。;
    • 多晶:利用聚晶金剛石的特性,在研抛過程中保持高切削效率的同時不易對工件産生劃傷;
    • 顆粒分散均勻,不團聚,有效避免抛光過程中由于顆粒團聚導緻的工件表面劃傷缺陷;
    • 顆粒粒徑分布适中,最大程度提升抛光速率的同時降低微劃傷的概率,可以提高抛光精度;
    • 運用抛光過程中的化學新作用,提高抛光速度,改善抛光表面的質量。

    • 特性
    • 晶粒尺寸微細、晶型完好
    • 比重大,具有良好的分散性
    • 顆粒細小均勻無團聚,适合于鏡面精抛光用途



單晶/多晶/類多晶
D50(um)
0.1250.250.500.75
D50(um)1.002.002.503.00
D50(um)4.005.006.007.00
D50(um)8.009.0010.00更多

納米金剛石
D50(um)30nm50nm100nm

未分級産品

一次粒徑4-7nm


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