抛光液關于抛光的質量有十分重要的影響。抛光溶液因金屬材料的不同而不同，無一緻配方，但(dàn)是(shì)關于抛光溶液都有如下一些要求：

抛光液

①抛光溶液中應當含有一定量的氧化劑和能與陽極産品在陽極外表構成阻很大的黏膜的成分。

②在不通的情況下，抛光溶液不應對被抛光金屬有明顯的腐蝕效果。

③不管通與否，抛光溶液都必須十分穩定。

④抛光溶液應有較寬的工作範圍（溫度、流密度等），而且允許的流密度下限應較小。

⑤抛光能力強，能消耗小，無毒以及廉價，對陽極産品的溶解度大，而且簡單将其鏟除。

抛光用解液可分爲兩類。第一解液的阻較小，能夠采用較低的壓(小于25V)，是(shì)工業出産中廣泛運用的一種。這類解液含有磷酸以及一定份額的硫酸，其間磷酸主要成分。

由于磷酸具有黏度大、對金屬的化學溶解性小、容易于構成薄膜、抛光極限流密度較小等優良性能，故大多數情況下都采用磷酸作抛光液的主要成分。不少配方中還加有适量的鉻酐，以避免被抛光金屬的腐蝕，能夠有利于氧化膜的構成，而且能夠添加抛光面的光潔度。有些解液中還參加少數的甘油、甲基纖維素等緩蝕劑。第二類是(shì)高阻的解液，解時所需的直流壓爲50~200V，這類解液的運用較少。