抛光液的性能直接影響到抛光後工件的表面質量，是(shì)雙面抛光的關鍵要素之一。抛光液一般包括超細的固體磨粒(如納米A120:及Si0:磨粒等等)、表面活性劑以及氧化劑和穩定劑等幾部分，其中固體磨粒産生切削作用，去(qù)除發生化學變化需要切除的部位，氧化劑産生化學腐蝕溶解作用，溶解切屑。在抛光過程中，抛光液中磨粒的種類、形狀、大小、濃度、化學成分、PH值、粘度、流速和流動的途徑都會對去(qù)除速度産生影響。

對不同材料的工件進行抛光時，所需要抛光液的成份、PH值也不盡相(xiàng)同同。PH值影響工件的表面質量和去(qù)除率表現(xiàn)在對磨料的分解與溶解度、被抛表面刻蝕及氧化膜的形成、懸浮度(膠體穩定性)等方面，因此需要嚴格控制抛光液的PH值。當處于抛光氧化物時，抛光液通常選取Si0:作爲磨料，PH值控制在10以上;而抛光金屬時，抛光液一般選用酸性的，保證PH值在較小的數值，能夠保持極高的工件去(qù)除率。

磨粒按硬度可分爲軟磨粒以及硬磨粒兩類。常用的磨粒包括氧化鋁系、碳化物系、超硬磨料系和軟磨料系4類。抛光用磨粒需具有下列性能:

(1)磨粒形狀和尺寸均勻一緻，保持在一定範圍;

(2)磨粒的熔點要比工件的熔點高;

(3)磨粒能适當地破碎，使切刃變鋒利;

(4)磨粒在抛光液中容易分散。

通常情況下，當磨粒硬度以及尺寸增加時，工件去(qù)除率增加，但(dàn)是(shì)同時劃痕增加，工件的表面質量下降;而磨粒的尺寸過小時又(yòu)容易産生凝聚成團的現(xiàn)象，增加工件表面劃痕。當抛光液中磨粒的濃度增加時，工件去(qù)除率也随之增加，但(dàn)當磨粒的濃度達到某一數值時，工件去(qù)除率也将停止增加，維持在某一常數，這種現(xiàn)象稱爲材料去(qù)除飽和，但(dàn)是(shì)由于磨粒濃度增加，工件表面的劃痕反而增加，表面質量下降。

研究抛光液的目的是(shì)爲了找到去(qù)除率高、平面度好、膜厚度均勻性好的抛光液，達到機械作用于化學作用的最佳組合。另外，還需要考慮對抛光機的腐蝕性、易清洗性、廢料的處理費(fèi)用及安全性等等其他問題。