抛光粉的種類及抛光效果分析

一．抛光粉的總類：

抛光粉通常由氧化鋁、氧化矽、氧化锆以及氧化铈等等組份組成，不同的材料的硬度不同，在水中的化學性質也不同，因此使用場合各不相(xiàng)同。氧化鋁和氧化锆的莫氏硬度爲9，氧化铈和氧化矽爲7，氧化鐵更低。氧化铈與矽酸鹽玻璃的化學活性較高，硬度也相(xiàng)當，因此廣泛用于玻璃的抛光。

二．對抛光粉的基本要求：

（1）微粉粒度均勻一緻，在允許的範圍之内；

（2）有較高的純度，不含機械雜(zá)質；

（3）有良好的分散性，以保證加工過程的均勻和高效，可适量添加分散劑提高懸浮率；

（4）粉末顆粒有一定的晶格形态，破碎時形成銳利的棱角，以提高抛光效率；

（5）有合适的硬度和密度，和水有很好的浸潤性和懸浮性，因爲抛光粉需要與水混合

粒度越大的抛光粉，磨削力越大，越适合于較硬的材料，要注意的是(shì)，所有的抛光粉的顆粒度都有一個分布問題，平均粒徑或中位徑D50的大小隻決定了抛光速度的快慢(màn)，而最大粒徑Dmax決定了抛光精度的高低。因此，要得到高精度要求，必須控制抛光粉的最大顆粒。普通抛光粉之所以存在劃傷，就是(shì)有大顆粒的原因。所以通常選擇粒徑分布範圍窄的納米抛光粉（VK-L300F）。

抛光過程中漿料的濃度決定了抛光速度,濃度越大抛光速度越高。使用小顆粒抛光粉時，漿料濃度因适當調低以得到合适的流動性，通常建議(yì)在7-10%

三．抛光模的選擇

抛光模應該用軟一點的。應該指出的是(shì)，很多聚氨酯抛光片中添加了氧化铈抛光粉。這些抛光粉的最大顆粒度同樣決定了最終的抛光精度。通常最好使用不加抛光粉的抛光模。

四．影響抛光粉性能的指标

1、粉體的粒度大小：顆粒的大小及均勻度決定了抛光速度和精度，過篩的篩網目數能掌握粉體相(xiàng)對的粒度的值，平均粒度決定了抛光粉顆粒大小的整體水平。

2、粉體莫氏硬度：硬度相(xiàng)對大的粉體具有較快的切削效果，同時添加一些助磨劑等等也同樣能提高切削效果；不同的應用領域會有很大出入，包括自身加工工藝。

3、粉體懸浮性：好的抛光粉要有較好的懸浮性，粉體的形狀和粒度大小對懸浮性能具有一定的影響，納米粒徑的抛光粉的懸浮性相(xiàng)對的要好一些，所以精抛一般選擇納米抛光粉。

4、粉體的晶型：粉體的晶型是(shì)團聚在一起的單晶顆粒，決定了粉體的切削性、耐磨性及流動性。粉體團聚在一起的單晶顆粒在抛光過程中分離(lí)（破碎），使其切削性、耐磨性逐漸下降，顆粒爲球型的抛光粉具有良好的切削性、耐磨性和流動性。

五．抛光範圍細分：

作爲精細抛光材料，目前市場上用量最大的幾類抛光粉主要是(shì)氧化鋁抛光粉，氧化铈抛光粉，氧化矽抛光粉等。

1．氧化鋁抛光粉：

氧化鋁抛光粉（VK-L300F）通常用于大理石石材抛光，金屬鋁材抛光，金屬不鏽鋼抛光，金相(xiàng)（亞克力闆）抛光，PCB印制電路闆抛光，油漆抛光，樹(shù)脂抛光，玉石抛光，顆粒大小根據要求一般分布在0.2-0.5um之間。

2. 二氧化矽抛光粉：

日常用于人工晶體，寶石抛光，或者金屬制品精抛後修複其少量的瑕疵。其粒徑一般分布在0.3-1um

3. 氧化铈抛光粉或者抛光液(VK-Ce02W)：

用于鏡頭、電視顯像管、眼鏡片、晶圓，光學元件、光纖、藝術玻璃、電子玻璃、平闆玻璃等的抛光。一次粒徑一般要求在20-30nm,二次粒徑一般要求0.2um。