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頂 薦 稀土抛光粉的制備技術
頂 薦 稀土抛光粉再生方法包括哪些?
頂 薦 低納矽溶膠的用途具體有哪些
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TEHNICAL INFO
技術信息
薦 頂 氧化铈抛光粉
氧化铈抛光粉主要成份爲二氧化铈(CeO2),其次分别爲氧化镧(La2O3)、氧化镨(Pr2O3)、氧氟化镧(LaOF),此外還含有微量的氧化矽、氧化鋁和氧化鈣。
薦 頂 稀土抛光粉的制備技術
稀土抛光粉是(shì)一種非常精細的氧化物,具有在抛光過程中去(qù)除表面缺陷并産生光滑表面的能力。粗糙的抛光粉不适合使用,一定要磨到不劃傷表面的細度。較好的方法是(shì)使草酸鹽、碳
薦 頂 稀土抛光粉再生方法包括哪些?
薦 頂 低納矽溶膠的用途具體有哪些
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